Bahan semikonduktor generasi ketiga terutama mencakup SiC, GaN, intan, dll., karena lebar celah pita (Eg) lebih besar dari atau sama dengan 2,3 elektron volt (eV), disebut juga bahan semikonduktor celah pita lebar. Dibandingkan dengan bahan semikonduktor generasi pertama dan kedua, bahan semikonduktor generasi ketiga memiliki keunggulan konduktivitas termal yang tinggi, medan listrik kerusakan yang tinggi, laju migrasi elektron jenuh yang tinggi, dan energi ikatan yang tinggi, yang dapat memenuhi persyaratan baru teknologi elektronik modern untuk tingkat tinggi suhu, daya tinggi, tekanan tinggi, frekuensi tinggi dan ketahanan radiasi dan kondisi keras lainnya. Ini memiliki prospek penerapan yang penting di bidang pertahanan nasional, penerbangan, dirgantara, eksplorasi minyak, penyimpanan optik, dll., dan dapat mengurangi kehilangan energi hingga lebih dari 50% di banyak industri strategis seperti komunikasi broadband, energi surya, manufaktur mobil, pencahayaan semikonduktor, dan jaringan pintar, serta dapat mengurangi volume peralatan hingga lebih dari 75%, yang merupakan tonggak penting bagi pengembangan ilmu pengetahuan dan teknologi manusia.
Barang 项目 | GaN-FS-CU-C50 | GaN-FS-CN-C50 | GaN-FS-C-SI-C50 |
Diameter | 50,8±1mm | ||
Ketebalan厚度 | 350 ± 25 m | ||
Orientasi | Bidang C (0001) menyimpang ke arah sumbu M 0,35 ± 0,15° | ||
Flat Perdana | (1-100) 0 ± 0,5°, 16 ± 1 mm | ||
Flat Sekunder | (11-20) 0 ± 3°, 8 ± 1 mm | ||
Daya konduksi | tipe-N | tipe-N | Semi-Isolasi |
Resistivitas (300K) | < 0,1 Ω·cm | < 0,05 Ω·cm | > 106 Ω·cm |
TV | ≤ 15 mikron | ||
BUSUR | ≤ 20 mikron | ||
Ga Kekasaran Permukaan Wajah | <0,2 nm (dipoles); | ||
atau <0,3 nm (pemolesan dan perawatan permukaan untuk epitaksi) | |||
N Kekasaran Permukaan Wajah | 0,5 ~1,5 mikron | ||
opsi: 1~3 nm (tanah halus); <0,2 nm (dipoles) | |||
Kepadatan Dislokasi | Dari 1 x 105 hingga 3 x 106 cm-2 (dihitung dengan CL)* | ||
Kepadatan Cacat Makro | < 2 cm-2 | ||
Area yang Dapat Digunakan | > 90% (pengecualian cacat tepi dan makro) | ||
Dapat disesuaikan sesuai dengan kebutuhan pelanggan, struktur silikon, safir, lembaran epitaksi GaN berbasis SiC yang berbeda. |