Cincin Fokus SiC Padat dari Semicera adalah komponen mutakhir yang dirancang untuk memenuhi permintaan manufaktur semikonduktor tingkat lanjut. Terbuat dari kemurnian tinggiSilikon Karbida (SiC), cincin fokus ini ideal untuk berbagai aplikasi di industri semikonduktor, khususnya diProses CVD SiC, etsa plasma, danICPRIE (Etsa Ion Reaktif Plasma Berpasangan Induktif). Dikenal karena ketahanan ausnya yang luar biasa, stabilitas termal yang tinggi, dan kemurniannya, produk ini memastikan kinerja tahan lama di lingkungan bertekanan tinggi.
Dalam semikonduktorkue waferpemrosesan, Cincin Fokus SiC Padat sangat penting dalam menjaga presisi etsa selama aplikasi etsa kering dan etsa wafer. Cincin fokus SiC membantu memfokuskan plasma selama proses seperti pengoperasian mesin pengetsaan plasma, sehingga sangat diperlukan untuk pengetsaan wafer silikon. Bahan SiC padat menawarkan ketahanan yang tak tertandingi terhadap erosi, memastikan umur panjang peralatan Anda dan meminimalkan waktu henti, yang penting untuk mempertahankan hasil tinggi dalam fabrikasi semikonduktor.
Cincin Fokus SiC Padat dari Semicera dirancang untuk tahan terhadap suhu ekstrem dan bahan kimia agresif yang biasa ditemui di industri semikonduktor. Ini dibuat khusus untuk digunakan dalam tugas-tugas presisi tinggi sepertiPelapis CVD SiC, di mana kemurnian dan daya tahan adalah yang terpenting. Dengan ketahanan yang sangat baik terhadap guncangan termal, produk ini memastikan kinerja yang konsisten dan stabil dalam kondisi paling keras, termasuk paparan suhu tinggi selama bekerjakue waferproses etsa.
Dalam aplikasi semikonduktor, yang mengutamakan presisi dan keandalan, Solid SiC Focus Ring memainkan peran penting dalam meningkatkan efisiensi proses etsa secara keseluruhan. Desainnya yang kokoh dan berperforma tinggi menjadikannya pilihan sempurna untuk industri yang membutuhkan komponen dengan kemurnian tinggi dan mampu bekerja dalam kondisi ekstrem. Apakah digunakan diCincin CVD SiCaplikasi atau sebagai bagian dari proses etsa plasma, Solid SiC Focus Ring Semicera membantu mengoptimalkan kinerja peralatan Anda, menawarkan umur panjang dan keandalan yang dibutuhkan proses produksi Anda.
Fitur Utama:
• Ketahanan aus yang unggul dan stabilitas termal yang tinggi
• Bahan SiC Padat dengan kemurnian tinggi untuk umur yang lebih panjang
• Ideal untuk aplikasi etsa plasma, ICP RIE, dan etsa kering
• Sempurna untuk etsa wafer, terutama dalam proses CVD SiC
• Performa yang andal di lingkungan ekstrem dan suhu tinggi
• Memastikan presisi dan efisiensi dalam pengetsaan wafer silikon
Aplikasi:
• Proses CVD SiC dalam manufaktur semikonduktor
• Etsa plasma dan sistem ICP RIE
• Proses etsa kering dan proses etsa wafer
• Etsa dan deposisi dalam mesin etsa plasma
• Komponen presisi untuk cincin wafer dan cincin CVD SiC