Keterangan
Perusahaan kami menyediakan layanan proses pelapisan SiC dengan metode CVD pada permukaan grafit, keramik dan material lainnya, sehingga gas khusus yang mengandung karbon dan silikon bereaksi pada suhu tinggi untuk memperoleh molekul SiC dengan kemurnian tinggi, molekul yang diendapkan pada permukaan bahan yang dilapisi, membentuk lapisan pelindung SIC.
Fitur utama
1. Ketahanan oksidasi suhu tinggi: ketahanan oksidasi masih sangat baik pada suhu setinggi 1600 C.
2. Kemurnian tinggi: dibuat dengan deposisi uap kimia dalam kondisi klorinasi suhu tinggi.
3. Ketahanan erosi: kekerasan tinggi, permukaan kompak, partikel halus.
4. Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.
Spesifikasi Utama Lapisan CVD-SIC
| Properti SiC-CVD | ||
| Struktur kristal | Fase FCC β | |
| Kepadatan | gram/cm³ | 3.21 |
| Kekerasan | Kekerasan Vickers | 2500 |
| Ukuran butir | m | 2~10 |
| Kemurnian Kimia | % | 99.99995 |
| Kapasitas Panas | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Suhu Sublimasi | ℃ | 2700 |
| Kekuatan Felekural | MPa (RT 4 poin) | 415 |
| Modulus Muda | IPK (tikungan 4pt, 1300℃) | 430 |
| Ekspansi Termal (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Konduktivitas termal | (W/mK) | 300 |
