Proses pelapisan SiC untuk pembawa grafit berlapis SiC berbasis grafit

Deskripsi Singkat:

Semicera Energy Technology Co., Ltd. adalah pemasok terkemuka keramik semikonduktor canggih.Produk utama kami meliputi: Cakram terukir silikon karbida, trailer perahu silikon karbida, kapal wafer silikon karbida (PV & Semikonduktor), tabung tungku silikon karbida, dayung kantilever silikon karbida, chuck silikon karbida, balok silikon karbida, serta pelapis CVD SiC dan pelapis TaC.
Produk ini terutama digunakan dalam industri semikonduktor dan fotovoltaik, seperti pertumbuhan kristal, epitaksi, etsa, pengemasan, pelapisan, dan peralatan tungku difusi.

 

Rincian produk

Label Produk

Keterangan

Kami menjaga toleransi yang sangat ketat saat menerapkanlapisan SiC, menggunakan pemesinan presisi tinggi untuk memastikan profil suseptor yang seragam.Kami juga memproduksi material dengan sifat hambatan listrik yang ideal untuk digunakan dalam sistem pemanas induktif.Semua komponen jadi dilengkapi dengan sertifikat kepatuhan kemurnian dan dimensi.

Perusahaan kami menyediakanlapisan SiClayanan proses dengan metode CVD pada permukaan grafit, keramik dan bahan lainnya, sehingga gas khusus yang mengandung karbon dan silikon bereaksi pada suhu tinggi untuk memperoleh molekul SiC dengan kemurnian tinggi, molekul diendapkan pada permukaan bahan yang dilapisi, membentuk lapisan pelindung SIC.SIC yang terbentuk terikat kuat pada dasar grafit, memberikan sifat khusus pada dasar grafit, sehingga membuat permukaan grafit menjadi kompak, bebas Porositas, tahan suhu tinggi, tahan korosi dan tahan oksidasi.

pacar (1)

Proses CVD menghasilkan kemurnian dan kepadatan teoritis yang sangat tinggilapisan SiCtanpa porositas.Terlebih lagi, karena silikon karbida sangat keras, ia dapat dipoles hingga permukaannya seperti cermin.Lapisan silikon karbida (SiC) CVDmemberikan beberapa keunggulan termasuk permukaan dengan kemurnian sangat tinggi dan ketahanan aus yang luar biasa.Karena produk berlapis memiliki kinerja luar biasa dalam kondisi vakum tinggi dan suhu tinggi, produk ini ideal untuk aplikasi di industri semikonduktor dan lingkungan ultra-bersih lainnya.Kami juga menyediakan produk pyrolytic graphite (PG).

 

Fitur utama

1. Ketahanan oksidasi suhu tinggi:
ketahanan oksidasinya masih sangat baik pada suhu setinggi 1600 C.
2. Kemurnian tinggi: dibuat dengan pengendapan uap kimia dalam kondisi klorinasi suhu tinggi.
3. Ketahanan erosi: kekerasan tinggi, permukaan kompak, partikel halus.
4. Ketahanan korosi: asam, alkali, garam dan reagen organik.

Utama-05

Utama-04

Utama-03

Spesifikasi Utama Pelapis CVD-SIC

SiC-CVD
Kepadatan (g/cc) 3.21
Kekuatan lentur (Mpa) 470
Ekspansi termal (10-6/K) 4
Konduktivitas termal (W/mK) 300

Aplikasi

Lapisan silikon karbida CVD telah diterapkan di industri semikonduktor, seperti baki MOCVD, RTP, dan ruang etsa oksida karena silikon nitrida memiliki ketahanan guncangan termal yang besar dan dapat menahan plasma energi tinggi.
-Silikon karbida banyak digunakan dalam semikonduktor dan pelapis.

Aplikasi

Kemampuan Pasokan:
10000 Potongan/potongan per Bulan
Pengemasan & Pengiriman:
Pengepakan: Pengepakan Standar & Kuat
Polybag + Kotak + Karton + Pallet
Pelabuhan:
Ningbo/Shenzhen/Shanghai
Waktu Pimpin:

Jumlah (Potongan) 1 – 1000 >1000
Est.Waktu (hari) 15 Untuk dinegosiasikan
Tempat Kerja Semicera
Tempat kerja Semicera 2
Mesin peralatan
Pemrosesan CNN, pembersihan kimia, pelapisan CVD
Layanan kami

  • Sebelumnya:
  • Berikutnya: