Pemanas MOCVD Tantalum Karbida

Deskripsi Singkat:

Pemanas MOCVD Semicera Tantalum Carbide dirancang untuk menahan suhu ekstrem hingga 2300°C, memberikan kinerja termal tak tertandingi untuk proses tingkat lanjut. Dengan waktu tunggu 30 hari yang dapat diandalkan, Semicera memastikan bahwa pemanas ini menawarkan kualitas dan efisiensi tertinggi, menjadikannya ideal untuk aplikasi industri yang menuntut.

 


Detail Produk

Label Produk

SemiceraTantalum KarbidaPemanas MOCVD dibuat untuk aplikasi suhu tinggi yang paling menuntut, mampu mencapai suhu hingga 2300°C. Pemanas ini memberikan stabilitas termal yang luar biasa, memastikan kinerja yang konsisten dan andal dalam proses deposisi uap kimia logam-organik (MOCVD). Semicera menjamin produk yang unggul dalam daya tahan dan presisi, disesuaikan untuk memenuhi kebutuhan industri mutakhir.

Dirancang menggunakan bahan tantalum karbida canggih, pemanas MOCVD ini menawarkan ketahanan luar biasa terhadap oksidasi dan korosi kimia, bahkan pada suhu tinggi. Daya tahan ini menjadikannya pilihan ideal untuk manufaktur semikonduktor, epitaksi, dan aplikasi suhu tinggi lainnya yang memerlukan presisi dan keandalan.

Sifat termal yang unggul dari SemiceraTantalum KarbidaPemanas MOCVD berkontribusi pada efisiensi proses yang dioptimalkan. Konstruksi kokohnya meminimalkan ekspansi termal dan kehilangan panas, memastikan distribusi suhu seragam di seluruh substrat. Hal ini mengarah pada peningkatan kualitas produk dan pengurangan biaya operasional.

Semicera berdedikasi untuk menyediakan pemanas yang tidak hanya memenuhi tetapi melampaui standar industri. SetiapTantalum KarbidaMOCVD Heater menjalani langkah-langkah kontrol kualitas yang ketat untuk memastikan kinerja puncak. Dengan waktu tunggu 30 hari, Semicera memberikan keandalan dan kecepatan yang dibutuhkan oleh operasi industri modern.

Baik di bidang penelitian semikonduktor, dirgantara, atau material, SemiceraTantalum KarbidaPemanas MOCVD adalah solusi tepat untuk mencapai hasil unggul dalam proses suhu tinggi. Performanya yang luar biasa pada suhu 2300°C menjadikannya sangat diperlukan untuk aplikasi yang mengutamakan presisi dan daya tahan.

 

 
微信图片_20240227150045

dengan dan tanpa TaC

微信图片_20240227150053

Setelah menggunakan TaC (kanan)

0(1)
Tempat Kerja Semicera
Tempat kerja Semicera 2
Mesin peralatan
Gudang Semicera
Pemrosesan CNN, pembersihan kimia, pelapisan CVD
Layanan kami

  • Sebelumnya:
  • Berikutnya: