Semicera menyediakan pelapis tantalum karbida (TaC) khusus untuk berbagai komponen dan pembawa.Proses pelapisan terdepan Semicera memungkinkan pelapisan tantalum karbida (TaC) mencapai kemurnian tinggi, stabilitas suhu tinggi, dan toleransi kimia yang tinggi, meningkatkan kualitas produk kristal SIC/GAN dan lapisan EPI (Suseptor TaC berlapis grafit), dan memperpanjang umur komponen utama reaktor. Penggunaan lapisan TaC tantalum karbida adalah untuk mengatasi masalah tepi dan meningkatkan kualitas pertumbuhan kristal, dan Semicera telah memecahkan terobosan teknologi pelapisan tantalum karbida (CVD), yang mencapai tingkat mahir internasional.
Pembawa wafer berlapis karbida Tantalum banyak digunakan dalam proses pemrosesan dan penanganan wafer dalam proses pembuatan semikonduktor. Mereka memberikan dukungan dan perlindungan yang stabil untuk memastikan keamanan, keakuratan, dan konsistensi wafer selama proses pembuatan. Lapisan karbida Tantalum dapat memperpanjang masa pakai pembawa, mengurangi biaya, dan meningkatkan kualitas dan keandalan produk semikonduktor.
Deskripsi pembawa wafer berlapis tantalum karbida adalah sebagai berikut:
1. Pemilihan material: Tantalum karbida merupakan material dengan performa yang sangat baik, kekerasan tinggi, titik leleh yang tinggi, ketahanan terhadap korosi dan sifat mekanik yang sangat baik, sehingga banyak digunakan dalam proses pembuatan semikonduktor.
2. Pelapisan permukaan: Pelapisan tantalum karbida diaplikasikan pada permukaan pembawa wafer melalui proses pelapisan khusus untuk membentuk lapisan tantalum karbida yang seragam dan padat. Lapisan ini dapat memberikan perlindungan tambahan dan ketahanan aus, sekaligus memiliki konduktivitas termal yang baik.
3. Kerataan dan presisi: Pembawa wafer berlapis karbida Tantalum memiliki tingkat kerataan dan presisi yang tinggi, memastikan stabilitas dan keakuratan wafer selama proses pembuatan. Kerataan dan penyelesaian permukaan pembawa sangat penting untuk menjamin kualitas dan kinerja wafer.
4. Stabilitas suhu: Pembawa wafer berlapis Tantalum karbida dapat menjaga stabilitas di lingkungan bersuhu tinggi tanpa deformasi atau kelonggaran, memastikan stabilitas dan konsistensi wafer dalam proses suhu tinggi.
5. Ketahanan korosi: Lapisan karbida Tantalum memiliki ketahanan korosi yang sangat baik, dapat menahan erosi bahan kimia dan pelarut, dan melindungi pembawa dari korosi cairan dan gas.
dengan dan tanpa TaC
Setelah menggunakan TaC (kanan)
Apalagi milik SemiceraProduk berlapis TaCmenunjukkan masa pakai yang lebih lama dan ketahanan suhu tinggi yang lebih besar dibandingkan denganpelapis SiC.Pengukuran laboratorium telah menunjukkan bahwa kamipelapis TaCdapat secara konsisten bekerja pada suhu hingga 2300 derajat Celcius untuk waktu yang lama. Di bawah ini adalah beberapa contoh sampel kami:
