Silicon Film oleh Semicera adalah material rekayasa presisi berkualitas tinggi yang dirancang untuk memenuhi persyaratan ketat industri semikonduktor. Diproduksi dari silikon murni, larutan film tipis ini menawarkan keseragaman yang sangat baik, kemurnian tinggi, serta sifat listrik dan termal yang luar biasa. Ini sangat ideal untuk digunakan dalam berbagai aplikasi semikonduktor, termasuk produksi Si Wafer, Substrat SiC, Wafer SOI, Substrat SiN, dan Epi-Wafer. Film Silikon Semicera memastikan kinerja yang andal dan konsisten, menjadikannya bahan penting untuk mikroelektronika tingkat lanjut.
Kualitas dan Kinerja Unggul untuk Manufaktur Semikonduktor
Film Silikon Semicera dikenal karena kekuatan mekaniknya yang luar biasa, stabilitas termal yang tinggi, dan tingkat cacat yang rendah, yang semuanya penting dalam pembuatan semikonduktor berkinerja tinggi. Baik digunakan dalam produksi perangkat Gallium Oxide (Ga2O3), AlN Wafer, atau Epi-Wafer, film ini memberikan landasan yang kuat untuk pengendapan film tipis dan pertumbuhan epitaksi. Kompatibilitasnya dengan substrat semikonduktor lain seperti Substrat SiC dan Wafer SOI memastikan integrasi yang lancar ke dalam proses manufaktur yang ada, membantu mempertahankan hasil tinggi dan kualitas produk yang konsisten.
Aplikasi di Industri Semikonduktor
Dalam industri semikonduktor, Silicon Film Semicera digunakan dalam berbagai aplikasi, mulai dari produksi Si Wafer dan SOI Wafer hingga penggunaan yang lebih khusus seperti pembuatan Substrat SiN dan Epi-Wafer. Kemurnian dan presisi tinggi dari film ini menjadikannya penting dalam produksi komponen canggih yang digunakan dalam segala hal mulai dari mikroprosesor dan sirkuit terpadu hingga perangkat optoelektronik.
Silicon Film memainkan peran penting dalam proses semikonduktor seperti pertumbuhan epitaksi, ikatan wafer, dan deposisi film tipis. Sifatnya yang andal sangat berharga bagi industri yang memerlukan lingkungan yang sangat terkontrol, seperti ruang bersih di pabrik semikonduktor. Selain itu, Silicon Film dapat diintegrasikan ke dalam sistem kaset untuk penanganan dan pengangkutan wafer yang efisien selama produksi.
Keandalan dan Konsistensi Jangka Panjang
Salah satu manfaat utama menggunakan Silicon Film Semicera adalah keandalannya dalam jangka panjang. Dengan daya tahan luar biasa dan kualitas konsisten, film ini memberikan solusi yang dapat diandalkan untuk lingkungan produksi bervolume tinggi. Baik digunakan pada perangkat semikonduktor presisi tinggi atau aplikasi elektronik canggih, Silicon Film Semicera memastikan bahwa produsen dapat mencapai kinerja dan keandalan tinggi di berbagai produk.
Mengapa Memilih Film Silikon Semicera?
Film Silikon dari Semicera adalah bahan penting untuk aplikasi mutakhir dalam industri semikonduktor. Sifat kinerjanya yang tinggi, termasuk stabilitas termal yang sangat baik, kemurnian tinggi, dan kekuatan mekanik, menjadikannya pilihan ideal bagi produsen yang ingin mencapai standar tertinggi dalam produksi semikonduktor. Dari Si Wafer dan Substrat SiC hingga produksi perangkat Gallium Oxide Ga2O3, film ini memberikan kualitas dan kinerja yang tak tertandingi.
Dengan Silicon Film Semicera, Anda dapat mempercayai produk yang memenuhi kebutuhan manufaktur semikonduktor modern, memberikan landasan yang andal untuk elektronik generasi berikutnya.
Barang | Produksi | Riset | Contoh |
Parameter Kristal | |||
Politipe | 4H | ||
Kesalahan orientasi permukaan | <11-20 >4±0,15° | ||
Parameter Listrik | |||
Dopan | Nitrogen tipe-n | ||
Resistivitas | 0,015-0,025ohm·cm | ||
Parameter Mekanik | |||
Diameter | 150,0±0,2mm | ||
Ketebalan | 350±25 m | ||
Orientasi datar primer | [1-100]±5° | ||
Panjang datar primer | 47,5±1,5mm | ||
Flat sekunder | Tidak ada | ||
TV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm (5mm * 5mm) | ≤5 m(5mm*5mm) | ≤10 μm(5mm*5mm) |
Busur | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
Melengkung | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Kekasaran depan (Si-wajah) (AFM) | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
Struktur | |||
Kepadatan pipa mikro | <1 buah/cm2 | <10 buah/cm2 | <15 buah/cm2 |
Kotoran logam | ≤5E10atom/cm2 | NA | |
BPD | ≤1500 unit/cm2 | ≤3000 unit/cm2 | NA |
TSD | ≤500 unit/cm2 | ≤1000 unit/cm2 | NA |
Kualitas Depan | |||
Depan | Si | ||
Permukaan akhir | CMP wajah-si | ||
Partikel | ≤60ea/wafer (ukuran≥0,3μm) | NA | |
Goresan | ≤5ea/mm. Panjang kumulatif ≤Diameter | Panjang kumulatif≤2*Diameter | NA |
Kulit jeruk/lubang/noda/goresan/retakan/kontaminasi | Tidak ada | NA | |
Keripik tepi/lekukan/patah/pelat segi enam | Tidak ada | ||
Daerah politipe | Tidak ada | Area kumulatif≤20% | Area kumulatif≤30% |
Penandaan laser depan | Tidak ada | ||
Kualitas Kembali | |||
Selesai kembali | CMP wajah C | ||
Goresan | ≤5ea/mm, Panjang kumulatif≤2*Diameter | NA | |
Cacat bagian belakang (pinggiran/lekukan tepi) | Tidak ada | ||
Kekasaran punggung | Ra≤0.2nm (5μm*5μm) | ||
Penandaan laser belakang | 1 mm (dari tepi atas) | ||
Tepian | |||
Tepian | Talang | ||
Kemasan | |||
Kemasan | Epi-ready dengan kemasan vakum Kemasan kaset multi-wafer | ||
*Catatan: "NA" berarti tidak ada permintaan. Item yang tidak disebutkan mungkin mengacu pada SEMI-STD. |