ItuTangki Pembersih Kuarsadari Semicera adalah alat penting untuk mencapai kebersihan optimal dalam manufaktur semikonduktor. Dirancang khusus untuk pengolahan wafer basah, tangki ini memastikan efektifkue waferpembersihan melalui teknik canggih yang meminimalkan kontaminasi dan meningkatkan hasil. Memanfaatkan bahan-bahan canggih, tangki Semicera dirancang untuk kinerja unggul dalam berbagai halkue wafermetode pembersihan.
Dibuat darikuarsa dengan kemurnian tinggi, Tangki Pembersih Kuarsa menawarkan ketahanan yang sangat baik terhadap bahan kimia agresif dan suhu tinggi. Daya tahan ini sangat penting dalam proses pembersihan semikonduktor, yang menggunakan proses etsa kimia basah dan metode etsa kering etsa basah. Dengan desainnya yang kokoh, tangki ini cocok untuk berbagai aplikasi, termasuk etsa basah dan berfungsi sebagai penangas kuarsa yang efisien untuk rutinitas pembersihan menyeluruh.
Dengan mengintegrasikan Tangki Pembersih Kuarsa ke dalam lini produksi Anda, Anda dapat menyederhanakan proses pembersihan wafer, memastikan semuanyakue wafertelah dibersihkan secara menyeluruh dan siap untuk langkah fabrikasi selanjutnya. Tangki yang andal ini membantu mengurangi kontaminasi partikel dan mendukung efisiensi yang lebih tinggi selama operasi etsa basah, yang pada akhirnya menghasilkan peningkatan kualitas produk.
Dengan Tangki Pembersih Kuarsa Semicera, Anda mendapatkan jaminan kinerja tinggi dan umur panjang. Kemampuannya untuk menahan kerasnya pemrosesan basah wafer menjadikannya aset berharga dalam fasilitas semikonduktor mana pun, memberikan ketenangan pikiran melalui peningkatan daya tahan dan keandalan dalam lingkungan yang menuntut. Pilih Semicera untuk solusi pembersihan Anda dan rasakan kualitas tak tertandingi dalam proses manufaktur semikonduktor Anda.
Kami dapat menangani berbagai macam bentuk sesuai kebutuhan Anda, mulai dari yang berukuran besar tunggal dan gandakuarsamandi menjadi kecilkuarsacawan lebur. Sebagai tambahanbahan kuarsa, kami juga dapat mengolah wadah yang terbuat dari kaca keras.
·Digunakan untuk proses pembersihan basah wafer.
·Slot tunggal/slot ganda (slot luapan).
·Dapat memproduksi hingga 12 inci.
