Industri semikonduktor mengalami pertumbuhan yang belum pernah terjadi sebelumnya, terutama di bidangsilikon karbida (SiC)elektronika daya. Dengan banyak skala besarkue waferpabrik yang sedang dibangun atau diperluas untuk memenuhi lonjakan permintaan perangkat SiC pada kendaraan listrik, ledakan ini menghadirkan peluang luar biasa untuk pertumbuhan laba. Namun, hal ini juga menimbulkan tantangan unik yang memerlukan solusi inovatif.
Inti dari peningkatan produksi chip SiC global terletak pada pembuatan kristal SiC, wafer, dan lapisan epitaksi berkualitas tinggi. Di Sini,grafit tingkat semikonduktorbahan memainkan peran penting, memfasilitasi pertumbuhan kristal SiC dan pengendapan lapisan epitaksi SiC. Insulasi termal dan kelembaman grafit menjadikannya bahan pilihan, banyak digunakan dalam cawan lebur, alas, cakram planet, dan satelit dalam sistem pertumbuhan kristal dan epitaksi. Namun demikian, kondisi proses yang keras menimbulkan tantangan yang signifikan, menyebabkan degradasi komponen grafit dengan cepat dan kemudian menghambat produksi kristal SiC dan lapisan epitaksi berkualitas tinggi.
Produksi kristal silikon karbida memerlukan kondisi proses yang sangat keras, termasuk suhu melebihi 2000°C dan zat gas yang sangat korosif. Hal ini sering mengakibatkan korosi menyeluruh pada cawan lebur grafit setelah beberapa siklus proses, sehingga meningkatkan biaya produksi. Selain itu, kondisi yang keras mengubah sifat permukaan komponen grafit, sehingga mengganggu kemampuan pengulangan dan stabilitas proses produksi.
Untuk mengatasi tantangan ini secara efektif, teknologi lapisan pelindung telah menjadi terobosan baru. Lapisan pelindung berdasarkantantalum karbida (TaC)telah diperkenalkan untuk mengatasi masalah degradasi komponen grafit dan kekurangan pasokan grafit. Bahan TaC menunjukkan suhu leleh melebihi 3800°C dan ketahanan kimia yang luar biasa. Memanfaatkan teknologi deposisi uap kimia (CVD),pelapis TaCdengan ketebalan hingga 35 milimeter dapat diendapkan secara mulus pada komponen grafit. Lapisan pelindung ini tidak hanya meningkatkan stabilitas material tetapi juga memperpanjang umur komponen grafit secara signifikan, sehingga mengurangi biaya produksi dan meningkatkan efisiensi operasional.
Semicera, penyedia terkemukapelapis TaC, telah berperan penting dalam merevolusi industri semikonduktor. Dengan teknologi mutakhir dan komitmen teguh terhadap kualitas, Semicera telah memungkinkan produsen semikonduktor mengatasi tantangan kritis dan mencapai tingkat kesuksesan baru. Dengan menawarkan pelapis TaC dengan kinerja dan keandalan yang tak tertandingi, Semicera telah mengukuhkan posisinya sebagai mitra terpercaya bagi perusahaan semikonduktor di seluruh dunia.
Kesimpulannya, teknologi lapisan pelindung, didukung oleh inovasi sepertipelapis TaCdari Semicera, membentuk kembali lanskap semikonduktor dan membuka jalan menuju masa depan yang lebih efisien dan berkelanjutan.
Waktu posting: 16 Mei-2024