Maksimalkan Hasil dan Kinerja dengan Reaktor Barel Mutakhir Semi-ceras

Deskripsi Singkat:

Semicera menawarkan rangkaian lengkap susceptor dan komponen grafit yang dirancang untuk berbagai reaktor epitaksi.

Melalui kemitraan strategis dengan OEM terkemuka di industri, keahlian material yang luas, dan kemampuan manufaktur tingkat lanjut, Semicera memberikan desain yang disesuaikan untuk memenuhi kebutuhan spesifik aplikasi Anda. Komitmen kami terhadap keunggulan memastikan bahwa Anda menerima solusi optimal untuk kebutuhan reaktor epitaksi Anda.

 

 


Detail Produk

Label Produk

Perusahaan kami menyediakanlapisan SiClayanan proses pada permukaan grafit, keramik dan bahan lainnya dengan metode CVD, sehingga gas khusus yang mengandung karbon dan silikon dapat bereaksi pada suhu tinggi untuk memperoleh molekul Sic dengan kemurnian tinggi, yang dapat diendapkan pada permukaan bahan yang dilapisi untuk membentuk aLapisan pelindung SiCuntuk epitaksi tipe barel hy pnotic.

 

Fitur utama:

1. Grafit berlapis SiC dengan kemurnian tinggi

2. Ketahanan panas yang unggul & keseragaman termal

3. BaikDilapisi kristal SiCuntuk permukaan yang halus

4. Daya tahan tinggi terhadap pembersihan kimia

 
Maksimalkan Hasil dan Kinerja dengan Reaktor Barel Mutakhir Semi-ceras

Spesifikasi Utama dariLapisan CVD-SIC

Properti SiC-CVD

Struktur Kristal Fase FCC β
Kepadatan gram/cm³ 3.21
Kekerasan Kekerasan Vickers 2500
Ukuran Butir m 2~10
Kemurnian Kimia % 99.99995
Kapasitas Panas J·kg-1 ·K-1 640
Suhu Sublimasi 2700
Kekuatan Felekural MPa (RT 4 poin) 415
Modulus Muda IPK (tikungan 4pt, 1300℃) 430
Ekspansi Termal (CTE) 10-6K-1 4.5
Konduktivitas termal (W/mK) 300

 

 
2--cvd-sic-kemurnian---99-99995-_60366
5----sic-crystal_242127
Tempat Kerja Semicera
Tempat kerja Semicera 2
Mesin peralatan
Pemrosesan CNN, pembersihan kimia, pelapisan CVD
Layanan kami

  • Sebelumnya:
  • Berikutnya: