Cincin SiC CVD Massal

Deskripsi Singkat:

Cincin SiC CVD massal menggunakan gas sumber silikon (seperti silikon hidrida) dan gas sumber karbon (seperti metana) sebagai bahan mentah, bereaksi pada suhu tinggi untuk menyimpan bahan SiC berukuran besar pada substrat atau cetakan. Proses ini memungkinkan SiC diendapkan secara seragam di area yang luas, membentuk struktur cincin yang kuat dan konsisten.

Kirim email ke kami

Detail Produk

Label Produk

Mengapa Cincin Etsa Silikon Karbida?

RTPCVD SiC berderingbanyak digunakan dalam bidang industri dan ilmiah di lingkungan bersuhu tinggi dan korosif. Ini memainkan peran penting dalam manufaktur semikonduktor, optoelektronik, mesin presisi dan industri kimia. Aplikasi khusus meliputi:

1. Manufaktur semikonduktor:RTP CVD SiC berderingdapat digunakan untuk pemanasan dan pendinginan peralatan semikonduktor, memberikan kontrol suhu yang stabil dan memastikan keakuratan dan konsistensi proses.

2. Optoelektronik: Karena konduktivitas termal yang sangat baik dan ketahanan suhu tinggi, RTPCVD SiC berderingdapat digunakan sebagai bahan pendukung dan pembuangan panas untuk laser, peralatan komunikasi serat optik, dan komponen optik.

3. Mesin presisi: Cincin SiC RTP CVD dapat digunakan untuk instrumen dan peralatan presisi di lingkungan bersuhu tinggi dan korosif, seperti tungku suhu tinggi, perangkat vakum, dan reaktor kimia.

4. Industri kimia: Karena ketahanan terhadap korosi dan stabilitas kimianya, cincin SiC RTP CVD dapat digunakan dalam wadah, pipa, dan reaktor dalam reaksi kimia dan proses katalitik.

Sistem Epi

Sistem RTP

Sistem CVD

Kinerja produk:

1. Penuhi proses di bawah 28nm

2. Ketahanan korosi yang super

3. Performa super bersih

4. Kekerasan super

5. Kepadatan tinggi

6. Tahan suhu tinggi

7. Ketahanan aus

Aplikasi produk:

Bahan silikon karbida memiliki karakteristik kekerasan tinggi, ketahanan aus, ketahanan korosi dan stabilitas suhu tinggi. Produk dengan kinerja komprehensif yang sangat baik banyak digunakan dalam proses etsa kering dan TF/Difusi.